快科技10月25日消息，重大自主据华中科技大学官微消息，突破近日，芯片该校武汉光电国家研究中心团队，光刻攻克在国内率先攻克合成光刻胶所需的胶关键技原料和配方，助推我国芯片制造关键原材料突破瓶颈。术被设计

据介绍，原材其研发的料全T150A光刻胶系列产品，已通过半导体工艺量产验证，部国实现了原材料全部国产，产配配方全自主设计，重大自主有望开创国内半导体光刻制造新局面。突破

公开资料显示，芯片光刻胶是光刻攻克一种感光材料，用于芯片制造的胶关键技光刻环节，工作原理类似于照相机的胶卷曝光。芯片制造时，会在晶圆上涂上光刻胶，在掩膜版上绘制好电路图。

当光线透过掩膜版照射到光刻胶上会发生曝光，经过一系列处理后，晶圆上就会得到所需的电路图。

由于光刻胶是芯片制造的关键材料，国外企业对其原料和配方高度保密，目前我国所使用的光刻胶九成以上依赖进口。

武汉光电国家研究中心团队研发的这款半导体专用光刻胶对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。

相较于国外同系列某产品，T150A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm，且工艺宽容度更大、稳定性更高、留膜率更优，其对刻蚀工艺表现更好，通过验证发现T150A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异。

团队负责人表示：“以光刻技术的分子基础研究和原材料的开发为起点，最终获得具有自主知识产权的配方技术，这只是个开始。我们团队还会发展一系列应用于不同场景下的KrF与ArF光刻胶，致力于突破国外卡脖子关键技术，为国内相关产业带来更多惊喜。”

• ·全球首发A725全大核架构！联发科天玑8400性能超越骁龙8 Gen2
• ·长信富民纯债一年定开债券增聘姜锡峰为基金经理
• ·新股发行数减少封板数下滑 6000亿打新底仓何去何从？
• ·苹果公司第四财季营收949.30亿美元：净利润同比下降36%
• ·新款特斯拉Model Y国内曝光：首次启用分体式灯组
• ·保险板块发力上涨 中国平安涨3.63%
• ·雅诗兰黛旗下Smashbox拒在华销售怎么回事？Smashbox怎么样？
• ·香山股份002870展鹏科技603488/732488新股申购 中签率中签号查询
• ·超800万打工人每日通勤上百里 北京近三成人路上超60分钟
• ·央行货币政策操作余额同比翻倍意味着什么？央行政策对投资影响
• ·通用汽车被诉柴油车排放作弊 事件进展如何？
• ·李想公布四季度目标：预计交付量将达到16
• ·Intel、AMD联合保卫x86！基辛格：18A工艺明年登场
• ·苹果开发者大会发布iOS11 增加防骚扰与诈骗短信功能
• ·中国电子商务协会质量信用与产品质量保障专业委员会成立
• ·644股获买入评级 50只股或涨超50%